Please use this identifier to cite or link to this item:
http://repositorio.ufc.br/handle/riufc/31862| Type: | TCC |
| Title: | Obtenção e caracterização de filmes finos de ZnO |
| Authors: | Silva, Thaís Jordana Viana da |
| Advisor: | Silva, Marcos Antônio Araújo |
| Keywords: | Óxido de zinco;Filmes finos;Raman, Espectroscopia de;Raios X - Difração |
| Issue Date: | 2011 |
| Citation: | SILVA, T. J. V. Obtenção e caracterização de filmes finos de ZnO. 2011. 49 f. Trabalho de Conclusão de Curso (Bacharelado em Física) - Centro de Ciências, Universidade Federal do Ceará, Fortaleza, 2011. |
| Abstract in Brazilian Portuguese: | Neste trabalho obtiveram-se filmes finos de óxido de zinco usando a técnica deposição em banho químico (CBD, Chemical Bath Deposition) sobre substrato de vidro. Os reagentes básicos foram o Sulfato de Zinco e a Trietanolamina (TEA), como fonte de Zinco e agente complexante, respectivamente. O valor do pH entre 10 e 11 da solução foi controlado usando o Hidróxido de Amônia. Utilizando a difração de Raios-X e espectroscopia Raman para caracterizar os filmes e o programa X’Peria HighScore para a análise dos resultados dos raiosX. A amostra foi submetida a um tratamento térmico no ar, cujo efeito na estrutura do ZnO foi inferido no resultado da difração de raios-X, com o melhoramento da amostra. |
| URI: | http://www.repositorio.ufc.br/handle/riufc/31862 |
| Appears in Collections: | FÍSICA-BACHARELADO - Monografias |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| 2011_tcc_tjvsilva.pdf | 1,44 MB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.