Use este identificador para citar ou linkar para este item: http://repositorio.ufc.br/handle/riufc/31862
Registro completo de metadados
Campo DCValorIdioma
dc.contributor.advisorSilva, Marcos Antônio Araújo-
dc.contributor.authorSilva, Thaís Jordana Viana da-
dc.date.accessioned2018-05-10T22:46:17Z-
dc.date.available2018-05-10T22:46:17Z-
dc.date.issued2011-
dc.identifier.citationSILVA, T. J. V. Obtenção e caracterização de filmes finos de ZnO. 2011. 49 f. Trabalho de Conclusão de Curso (Bacharelado em Física) - Centro de Ciências, Universidade Federal do Ceará, Fortaleza, 2011.pt_BR
dc.identifier.urihttp://www.repositorio.ufc.br/handle/riufc/31862-
dc.language.isopt_BRpt_BR
dc.subjectÓxido de zincopt_BR
dc.subjectFilmes finospt_BR
dc.subjectRaman, Espectroscopia dept_BR
dc.subjectRaios X - Difraçãopt_BR
dc.titleObtenção e caracterização de filmes finos de ZnOpt_BR
dc.typeTCCpt_BR
dc.description.abstract-ptbrNeste trabalho obtiveram-se filmes finos de óxido de zinco usando a técnica deposição em banho químico (CBD, Chemical Bath Deposition) sobre substrato de vidro. Os reagentes básicos foram o Sulfato de Zinco e a Trietanolamina (TEA), como fonte de Zinco e agente complexante, respectivamente. O valor do pH entre 10 e 11 da solução foi controlado usando o Hidróxido de Amônia. Utilizando a difração de Raios-X e espectroscopia Raman para caracterizar os filmes e o programa X’Peria HighScore para a análise dos resultados dos raiosX. A amostra foi submetida a um tratamento térmico no ar, cujo efeito na estrutura do ZnO foi inferido no resultado da difração de raios-X, com o melhoramento da amostra.pt_BR
Aparece nas coleções:FÍSICA-BACHARELADO - Monografias

Arquivos associados a este item:
Arquivo Descrição TamanhoFormato 
2011_tcc_tjvsilva.pdf1,44 MBAdobe PDFVisualizar/Abrir


Os itens no repositório estão protegidos por copyright, com todos os direitos reservados, salvo quando é indicado o contrário.