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dc.contributor.advisorLima Neto, Pedro de-
dc.contributor.authorAlcanfor, Ana Aline Coelho-
dc.date.accessioned2017-07-13T19:19:34Z-
dc.date.available2017-07-13T19:19:34Z-
dc.date.issued2017-
dc.identifier.citationALCANFOR, A. A. C. (2017)pt_BR
dc.identifier.urihttp://www.repositorio.ufc.br/handle/riufc/23953-
dc.descriptionALCANFOR, Ana Aline Coelho. Estudo da Eletrodeposição de Índio Sobre a Superfície de Cobre em Meio de Cloreto de Colina e Etilenoglicol. 2017. 44 f. Dissertação (Mestrado em Química)-Universidade Federal do Ceará, Fortaleza, 2017.pt_BR
dc.description.abstractThe electrodeposition of In on Cu substrate was investigated using 0.05 mol L–1 InCl3 dissolved in a mixture of choline chloride (ChCl) and ethylene glycol (EG), in molar ratio of 1:2 (1ChCl:2EG DES + InCl3 0,05 mol L–1), at temperatures of 25, 45, 65 e 80 °C. Analysis of the current-time curves using the Scharifker-Hills model indicated that the In deposition on Cu electrode occurred by the mechanism of progressive nucleation. Morphological examination showed that from 25 to 65 °C electrodeposited consisted of In grains and rods. The elevation of the temperature to 80 °C favors the formation of In rods. XRD results revealed the presence of the crystalline phase of CuIn and the phase of In with preferential orientated in the (101) planes.pt_BR
dc.language.isopt_BRpt_BR
dc.subjectEletrodeposiçãopt_BR
dc.subjectSolventes eutéticospt_BR
dc.subjectÍndio.pt_BR
dc.titleEstudo da Eletrodeposição de Índio Sobre a Superfície de Cobre em Meio de Cloreto de Colina e Etilenoglicolpt_BR
dc.typeDissertaçãopt_BR
dc.contributor.co-advisorCorreia, Adriana Nunes-
dc.description.abstract-ptbrA eletrodeposição de índio sobre substrato de cobre foi investigada usando 0,05 mol L–1 de InCl3 dissolvido em uma mistura de cloreto de colina (ChCl) e etilenoglicol (EG), numa razão molar de 1:2 (1ChCl:2EG DES + InCl3 0,05 mol L–1), nas temperaturas de 25, 45, 65 e 80 °C. A análise das curvas de corrente-tempo, aplicando o modelo de Scharifker-Hills indicou que a eletrodeposição de índio sobre cobre ocorre por um mecanismo de nucleação progressiva. A análise morfológica demonstrou que de 25 a 65 °C os eletrodepósitos consistiam em grãos e barras de índio. A elevação da temperatura para 80 ºC favorece a formação de barras de índio. Os resultados de DRX revelaram a presença da fase cristalina de CuIn e da fase de In com crescimento preferencial no plano (101).pt_BR
dc.title.enStudy of Indium Electrodeposition on Copper Surface From Choline Chloride/Ethylene Glycol Eutectic Mixturept_BR
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